正宇真空设备
Zhengyu vacuum EquipmentProfessional vacuum pump equipment and maintenance parts service provider
产品分类
Product Categories
在黏滞流状态下,分子间的频繁碰撞使低温泵的理论抽速不同于分子流条件下 的理论抽速。由于低温表面和容器之间存在温度梯度和压力梯度,气体分子在定向 力的作用下,气体分子以高速连续流向低温面,因而具有远大于分子流区域的抽 速,其最大值为
,=A.RT&/ 2 (2-39)
M(k+1 式中,k是气体绝热指数(k=Cn/c),其余符号意义同前。 计算表明,低温泵在黏滞流范围内的抽速是分子流的三倍。一般情况下,低温 泵都工作在分子流区域,只有打开阀门开始抽气的瞬间才工作在黏滞流状态。 2.4.4.5低温泵抽速测量
低温泵抽速测量我国至今还没有制定测试标准。低温泵的抽速测量的主要问题 是低温板和测试罩壁之间是非等温系统。摩尔研究了两个无限平行平面之间分子流 状态(图2-49),平面1为气源,平面2为低温泵的冷凝板,他假设 ①两板之间的距离远大于分子的平均直径
②低温板覆盖一层冷凝物,冷凝层表面温度为T2。 ③气源板气源分子质量流率为w,它与冷凝物表面相碰撞时的黏滞概率为a, 没有被捕获的分子全被漫反射。
④漫反射离开冷凝表面的分子质量流为(1-a)W1,并具有与T2温度(即适 应系数为1)相对应的速度分布
⑤除反射的分子外,冷凝层蒸发的分子流为W,同样具有温度T2的速度
分布。 ⑥来自气源的分子质量流v1由气源发射的分子流 W1和撞击气源表面的漫反射分子流w两部分组成。质 量流1具有对应温度T1的速度分布。 ⑦所有分子流的速度分布均遵守麦克斯韦尔速度 分布。 根据上述假设,可以把气源与冷凝器间的气体看作 是两股做相对运动的气流。w1是从气源流向冷凝器,w2 是从冷凝器流向气源。w1和w的速度分布分别与温度
真空泵维修,莱宝真空泵维修--深圳扬程真空设备